簡介/玻璃硅片超聲波清洗機    半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中玻璃硅片須經(jīng)嚴(yán)格清洗。微量污染也會導(dǎo)致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染雜質(zhì)，包括有機物和無機物。這些雜質(zhì)有的以原子狀態(tài)或離子狀態(tài)，有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面。有機污染包括光刻膠、有機溶劑殘留物、合成蠟和人接觸器件、工具、器皿帶來的油脂或纖維。無機污染包括重金屬金、銅、鐵、鉻等，嚴(yán)重影響少數(shù)載流子壽命和表面電導(dǎo)；堿金屬如鈉等，引起嚴(yán)重漏電；顆粒污染包括硅渣、塵埃、細(xì)菌、微生物、有機膠體纖維等，會導(dǎo)致各種缺陷。將超聲波清洗機應(yīng)用到玻璃硅片生產(chǎn)中，不僅環(huán)保還提高產(chǎn)品質(zhì)量。